絶えず集中し、産業を深く耕し、半導体SiC材料、エピタキシャル、パワーデバイスなどの顧客の盛んな発展を支援する
SiC炭化ケイ素／GaN窒化カリウム基板
SiC炭化ケイ素/GaN窒化カリウムエピタキシャル
SiC炭化ケイ素/GaN窒化カリウムパワーデバイス
Si基板
一橋が持っている豊富な第三世代半導体プロセス経験と岡本の先進的な装置プロセス技術を持ち合わせ、SiC炭化ケイ素/GaN窒化カリウムパワーデバイス材料の研削、ポリッシャープロセスのソリューションを提供することができる。
グラインダー
ポリッシャ
