PNX332Bは、酸化層や金属膜だけでなく、ウエハ表面の損傷層も除去できる全自動ポリッシャー設備。同時に6枚のウエハを研磨することができる、8つの研磨ヘッドと3つの研磨台を搭載し、それぞれの研磨台に研磨液を供給する、3つの研磨バケツを搭載している。各研磨台はお客様のニーズに応じて粗投げや精密投げができる。
PNX332Bは、酸化層や金属膜だけでなく、ウエハ表面の損傷層も除去できる全自動ポリッシャー設備。同時に6枚のウエハを研磨することができる、8つの研磨ヘッドと3つの研磨台を搭載し、それぞれの研磨台に研磨液を供給する、3つの研磨バケツを搭載している。各研磨台はお客様のニーズに応じて粗投げや精密投げができる。12インチSi基板ポリッシングの世界シェアは80%以上となっており、今後は8インチSiC基板の全自動ポリッシングにも貢献していくこと。
型番 | PNX332B | |
装置サイズ(W×D×H) | mm | 2440×3260×2200 |
ポリッシャー枚数 | - | 6枚 |
加工材料 | - | Si、SiC |
加工材最大サイズ | mm | φ300 |