PNX332B 是全自动通用抛光型设备,不仅可以处理氧化层和金属膜,而且可以去除晶圆表面损伤层。该机型搭载有8个抛光头,3个抛光台,同时可以对6片晶圆进行抛光,同时搭载3个抛光液料桶,分别给每个抛光台提供抛光液,每个抛光台可以根据客户需求进行粗抛或者精抛,每个抛光台都配有抛光液和纯水的管路,可以自动切换纯水或者抛光液。该机型在全球12寸硅片衬底的抛光占有率达到80%以上,今后也会将会在8寸碳化硅衬底的全自动抛光做出应有贡献!
PNX332B 是全自动通用抛光型设备,不仅可以处理氧化层和金属膜,而且可以去除晶圆表面损伤层。该机型搭载有8个抛光头,3个抛光台,同时可以对6片晶圆进行抛光,同时搭载3个抛光液料桶,分别给每个抛光台提供抛光液,每个抛光台可以根据客户需求进行粗抛或者精抛,每个抛光台都配有抛光液和纯水的管路,可以自动切换纯水或者抛光液。该机型在全球12寸硅片衬底的抛光占有率达到80%以上,今后也会将会在8寸碳化硅衬底的全自动抛光做出应有贡献!
规格 | PNX332B | |
设备尺寸(W×D×H) | mm | 2440×3260×2200 |
抛投数量 | - | 6枚 |
加工材料 | - | 硅、Sic碳化硅晶片 |
最大加工尺寸 | mm | φ300 |