该机型搭载有2个抛光头，2个抛光台，同时可以对2片晶圆进行抛光，同时搭载2个抛光液料桶，分别给每个抛光台提供抛光液，每个抛光台可以根据客户需求进行粗抛或者精抛，每个抛光台都配有抛光液和纯水的管路，可以自动切换纯水或者抛光液。
该机型搭载有2个抛光头，2个抛光台，同时可以对2片晶圆进行抛光，同时搭载2个抛光液料桶，分别给每个抛光台提供抛光液，每个抛光台可以根据客户需求进行粗抛或者精抛，每个抛光台都配有抛光液和纯水的管路，可以自动切换纯水或者抛光液。
| 规格 | PNX200L | |
| 设备尺寸（W×D×H） | mm | 1200×1950×2118 |
| 同时抛光枚数 | - | 2枚 |
| 加工材料 | - | 钽酸锂晶片，铌酸锂晶片 |
| 最大加工尺寸 | mm | MAX.φ200 |
